高剪切膠體磨設(shè)備的錐型磨頭間隙可調(diào)節(jié)至更小,來減小顆粒粒徑,從而可獲得更細(xì)的懸浮液。錐體磨轉(zhuǎn)子表面含高硬質(zhì)材料,如金屬碳化物或不同顆粒的陶瓷,具有*的粉碎效果。在強(qiáng)剪切區(qū)域內(nèi)亦可受到保護(hù),防止被磨損或腐蝕。根據(jù)物料粘度情況的不同
高剪切膠體磨設(shè)備
錐體磨GM02000是在GM2000基礎(chǔ)上的進(jìn)一步優(yōu)化產(chǎn)品,有著更新的技術(shù)創(chuàng)新。
錐型磨頭間隙可調(diào)節(jié)至更小,來減小顆粒粒徑,從而可獲得更細(xì)的懸浮液。錐體磨轉(zhuǎn)子表面含高硬質(zhì)材料,如金屬碳化物或不同顆粒的陶瓷,具有*的粉碎效果。在強(qiáng)剪切區(qū)域內(nèi)亦可受到保護(hù),防止被磨損或腐蝕。根據(jù)物料粘度情況的不同,可以靈活調(diào)節(jié)間隙,保證處理效果的均一。
磨頭的材質(zhì):有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐磨轉(zhuǎn)子,另有醫(yī)藥及食品級(jí)材質(zhì)。
特點(diǎn):定轉(zhuǎn)子間隙都可以方便簡單的調(diào)整以滿足生產(chǎn)需要。

國內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1
通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍。
二、膠體磨頭和間距:
SID膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,超高速模塊,膠體模塊,膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊,間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工。
國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差。
三、機(jī)械密封:
SID膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)。
國內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀。

高剪切膠體磨設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達(dá)功率 kw | 出/入口連接 DN |
GMO2000/4 | 50 | 9000 | 23 | 50 | 25/15 |
GMO200O/5 | 200 | 6000 | 23 | 5.5 | 40/32 |
GMO2000/10 | 500 | 4200 | 23 | 11 | 50/50 |
GMO2000/20 | 1500 | 2850 | 23 | 37 | 80/65 |
GMO2000/30 | 3000 | 1420 | 23 | 55 | 150/12 |
GMO2000/50 | 6000 | 1100 | 23 | 110 | 200/150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。
應(yīng)用:基板電路表面涂層劑,顏料、色素、樹脂等等。

